Produkty

EMP110 DI Tekutá fotocitlivá pájecí maska pro přímou expozici

EMP110 DI je další generací tekutých fotocitlivých pájecích masek pro přímou expozici. Je vhodná pro vysoce spolehlivou HDI výrobu DPS tam, kde se vyžadují nejvyšší rozlišení a registrace.
Optimalizovaná charakteristika vyzařovacího vytvrzování dodává vysoké úrovně průchozího vytvrzování  a rozlišení při nízkých úrovních energie, bez kompromisu v tvrdosti povrchu nebo v chemické odolnosti.
 
Vhodná pro laserové a LED systémy přímé expozice
K dispozici verze pro zdroje světla od 355 nm až do 405 nm
Nízká energie expozice (až 50 – 80 mJ/cm2)
Velmi jemné rozlišení (50 µm)
Vysoká chemická odolnost k ENIG & Sn procesům
Aplikace stotiskem nebo rozstřikem
Neobsahuje halogenové přísady, vyhovuje RoHS a plně REACH, bez TGIC nebo dalšího SVHC obsahu

    Soubory ke stažení

    Jsme výhradní zástupci firem